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ICP、ICP-MS几乎可以有效的分析所有元素,因此被广泛的使用于半导体产业、核工领域,以及环境样品的元素分析。尤其是ICP-MS,由于可以进行极微量的金属分析,因此所使用的超纯水,其金属是要去除到极限的。超纯水系统的纯化方法中,用来去除离子的是离子交换树脂,因此维持树脂的交换能力是很重要的。离子交换树脂除了会因为官能基饱和而降低去除能力外,树脂表面也会发生有机物质与微生物的附着,所以在离子交换树脂的前段处理程序中,使用紫外线灯来氧化分解有机物质,以防止树脂被污染。此外,为了...
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HPLC经常使用于各种有机物质分析,与质谱仪组合为LC/MS,可进行极微量的分析。超纯水使用于移动相製备、标准液调配及作为空白实验。实验用超纯水中的有机物会造成背景值与杂讯的发生,使分析结果受到干扰。以HPLC(以UV检测)对不同超纯水的有机物含量进行检测时,结果显示,有机物的含量与吸收背景值具正相关的关係(图1)。此时,可以使用紫外线灯(波长185nm)照射来降低有机物含量,被氧化分解的有机物则以离子的形态存在于水中,可以在后续的纯化程序中使用离子交换树脂来加以去除(图2)...
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在现代化电子行业生产中,集成电路zui明显的特征就是:产品的体积,在不断的缩小.这一变化使得生产过程中超纯水的水质要求也愈来愈高,对纯水器等设备的要求也就越来越严格。特别是在电子工厂,洁净厂房设计中纯水供应是重要内容之一,各种电子产品生产工艺对纯水水质、水量要求均不相同。在电子物品生产中,超纯水系统应根据原水水质和产品生产工艺对水质的要求,结合系统规模、材料及设备供应等情况,通过技术经济比较来选择。纯水系统的原水水质因各地区、城市的水源不同相差很大,有的城市以河水为水源,即使...
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*,超纯水中杂质会对器件带来一系列的不利影响!所以,如何确定超纯水系统流程以保证生产设备对超纯水水质的要求就成为超纯水系统所要解决的首要问题。集成电路工厂的纯水制备系统应根据原水水质及工艺生产设备要求的超纯水水质来确定,一般由下列4部分组成:预处理系统、一次纯水处理系统、超纯水制取系统、回收水系统预处理的目的是去除水中所含的悬浮物、胶体、高分子有机物等杂质。需要指出的是,活性炭对去除TOC有非常好的效果,但它也往往成为微生物的滋生地。因此,在预处理系统中采用活性炭处理单元时,...
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现在制备纯水和超纯水zui稳定zui方便的方法,就是通过纯水与超纯水系统。打世界上*台超纯水系统问世到现在,超纯水系统的设计生产理念就一直围绕着“*水质,zui稳水质”来不断*。一、*水质1.天然水中常见杂质包括可溶性无机物、有机物、颗粒物、微生物、可溶性气体等。纯水/超纯水系统就是要尽可能*地去处这些杂质。2.净化水质的主要工艺目前常用净化水质的工艺方法有蒸馏法、反渗透法、离子交换法、过滤法、吸附法、紫外氧化法等。同时我们可以将水的纯化过程大致分为3大步,前处理(生产出纯水...
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